拓荆科技收购无锡尚积 薄膜沉积平台化升级加速
券商披露研报指出,拓荆科技作为国内薄膜沉积设备龙头,已形成PECVD、ALD、SACVD等多款核心产品,设备在逻辑芯片和存储芯片产线实现规模化应用。研报认为,公司拟收购无锡尚积能快速补齐PVD和干法刻蚀能力,完善薄膜沉积全工艺矩阵,同时强化三维集成领域的成套设备交付实力。 研报指出,无锡尚积在12英寸PVD设备上已取得突破,产品覆盖功率器件、MEMS和先进封装领域。收购完成后,PVD与现有键合设备形成协同,将显著提升单客户价值量和市场竞争力。研报认为,随着产品结构从单一向多技术路线升级,以及三维集成设备持续放量,公司收入和利润弹性有望进一步释放,平台化转型将打开更大增长空间。 中财网
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